area efficiency câu

• Compared to its 10nm FinFET predecessors, Samsung’s 7LPP EUV technology not only greatly reduces the process complexity with less process steps and better yield, but also allows up to a 40% increase in area efficiency with 10% higher performance or up to 35% lower power consumption.
  So với quy trình sản xuất chip Finnfet 10nm, công nghệ 7LPP EUV của Samsung không chỉ giảm đáng kể sự phức tạp của quy trình, mà còn cho phép giảm kích thước chip đến 40% và hiệu suất xử lý của chip có thể cao hơn 35%.
• Compared to its 10nm FinFET predecessors, Samsung’s 7LPP EUV technology not only greatly reduces the process complexity with less process steps and better yield, but also allows up to a 40% increase in area efficiency with 10% higher performance or up to 35% lower power consumption.
  So với quy trình sản xuất chip Finnfet 10nm tiền nhiệm, công nghệ 7LPP EUV của Samsung không chỉ giảm đáng kể sự phức tạp của quy trình mà còn cho phép giảm kích thước chip đến 40% và hiệu suất xử lí của chip có thể cao hơn 35%.